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第三百四十六章 挖光刻胶友商祖坟?陈星还让不让人活 (第2/5页)

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解让陈星收获了掌声与称赞,不过他也只是停顿了片刻,待现场掌声稍稍减弱,他压了压手,示意安静下来道:

“现在大家都对光刻抗阻有了一定的认知,那我就不得不再提光刻抗阻为什么可以反应出纯度,亦或者说品质。”

“玩过光源聚焦的都知道,光束越集中,单点能量就越强,这个大家可以拿个放大镜去聚焦太阳光,我就不过多赘述了。”

“目前的光刻机光源,分为已经半淘汰的248纳米,主要用于90纳米以上的光刻,其次是193纳米光源和13.5纳米光源,这里值得注意的是,13.5纳米光源只有EUV光刻机可以做到。”

“光源越小,能量密度越高,相对应的精准度也会越高,这就给我们光刻工程师提供了更高工艺水准芯片的温床,14纳米工艺芯片用的就是13.5纳米光源。”

“之前我也提到了,光束越集中,光刻的能量就越强,如果光刻胶抗阻型弱,是不是很容易造成半导体硅片污染?”

问题抛出,全场来宾都微微颔首,认同陈星的说法。

罗浩更是凑近雷布斯,小声感慨道:“还别说,陈老弟完全可以去高校当教授了,居然连我都听得懂什么叫光刻抗阻。”

“这就叫积累,好好学吧。”

雷布斯淡淡回应。

陈星不拿任何提示稿件,现场也没有提词器,却可以把光刻抗阻讲述这么透彻,要说没下苦功夫那是不可能的。

而在所有观众对光刻抗阻和光源有了一定认知后,陈星继续讲述道:“因此想要造7纳米、5纳米甚至是3纳米芯片,光刻胶的抗阻性必须要跟上工艺进度,所以我们这款10^25光刻胶理论支持…”

陈星按下手心的遥控器,LED屏幕弹出具体参数的瞬间,快速开口道:“3纳米。”

“!!!”

“嘶!!!”

现场惊呼声,倒吸凉气声交织,宛如一场口技盛宴,每个人都贡献自己的声音。

任国非闪烁惊讶目光的同时,喃喃自语道:“这小子没开玩笑,他可能真在搞3纳米芯片。”

“这…”

雷布斯惊得说不出话。

罗浩、段勇平、陈永、王福等老总同样如此,一时间都被这个消息震慑住了。

当初陈星回应裤克,提出3纳米芯片的世纪赌约,几乎没有业内老总认为陈星可以办得到。

3纳米芯片什么概念?

这得有EUV光刻机吧?

龙兴科技没有。

还要有高纯度光刻胶吧?

龙兴科技也没有。

最后还得设计相应集体电路图,具备熟练的生产工艺吧?

前面芯片设计不好说,后面的光刻生产工艺,龙兴科技同样不具备这个条件。

在种种因素制约下,所有人都当陈星是口嗨。

可万万没想到,他们觉得的口嗨行为,却是陈星手上一张张没有曝光的底牌。

12寸半导体硅片很大?

16寸够不够?

不够还有20寸的。

10^15抗阻的光刻胶只能应用于14纳米芯片?

10^25光刻胶了解一下?

现在他们严重怀疑,陈星连光刻机也攻克了,那句“3纳米芯片”可能不是空谈。

……

远在大洋彼岸的库比蒂诺,住在别墅区的裤克已经呆若木鸡,整个人愣住了。

14N16寸和20寸半导体硅片,10^25最高支持3纳米工艺芯片光刻的光刻胶。

陈星没吹牛。

他真的在搞3纳米芯片。

裤克和其他人一样,都不相信龙兴科技具备3纳米芯片的研发条件,因为限制太多了。

可看了“阴间发布会”,他现在想揪着陈星衣领问:“你到底还有多少底牌没打出来?”

“呵呵…”裤克苦笑一声,突然意识到双方的差距,如果真是10^25光刻胶,那世纪赌约他可能输一半了,陈星是真有东西的。

不等裤克回过神,陈星像似又一次预料到会有人质疑,再次自证道:“我相信有很多同行友商都在关注这场直播,和半导体硅片一样,我们上机器实测。”

话音落下。

工作人员再次推出设备。

“这叫光刻胶抗蚀剂测量仪,还有光刻胶厚度测量仪,下面由我来进行实测。”

裤克:“……”

藤井小山:“……”

黄任勋:“……”

沉默了。

再次集体沉默了。

什么叫实力?

这就叫做有实力。

走黑粉的路,让黑粉无路可走,喜欢质疑品质,那他陈星就亲自打假看看。

经过一通操作,连接的礼堂LED屏幕出现了相关参数,的的确确到达了10^25的抗阻。

陈星

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